可採(cǎi)用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備(bèi)金屬膜，也可採(cǎi)用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備(bèi)金屬或氧化物膜。可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設備(bèi)體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

技術參數