應用領域：

适用於(yú)實驗室制備(bèi)金屬單質膜、半導體膜、鈣钛礦太陽能電池、锂電池、有機膜等 , 用於(yú)鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單(dān) 層 / 多層 / 複合膜，例：銅、鎂、鋁
、金、銀、鋇(bèi)、铋、鋅、銻等；用於(yú)太陽能電池、LED 的研究和實驗。用於(yú)有機材料等蒸發(fā)； 鍍制非金屬 / 化合物等材料薄膜等

基本配置
：

◆真空腔室： D 型圓筒形
，尺寸約 ф450×H450mm，前開門結構；採(cǎi)用鉸鏈、鋁制前門，手動(dòng)，上下 2 個(gè)杠杆把手，膠(jiāo)圈密封， 腔體内表面採(cǎi)用電解抛光處(chù)理；外表面採(cǎi)用拉絲抛光，無擦傷及劃痕
。 

◆抽氣系統：採(cǎi)用複(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作爲真空抽氣(qì)系統； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮氣壓縮比≥ 109 ； 前級泵：VRD-30 機械泵及電(diàn)磁閥(fá)，抽速：8L/S 主抽閥： CCQ-200 超高真空氣動插闆閥 

* 真空系統可以升級(jí)爲進口分子泵和渦旋幹(gàn)泵。 

◆真空測(cè)量：數顯複(fù)合真空計： “兩低一高”全量程數顯複合真空計； 

* 真空測(cè)量可以升級爲進口全量程冷陰極(jí)真空計 

◆極限真空：<5×10-5Pa 

◆恢複真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆蒸發源（選配）： 金屬蒸發源：4 組金屬(shǔ)蒸發(fā)源在腔體底部呈發(fā)散形分布 , 相互間擋闆隔開 , 避免交叉污染，兼容金屬和有機(jī)材料蒸鍍(dù)； 束 源 爐：4 組有機(jī)蒸發(fā)源，坩埚容量（2CC），角度 0-30 度可調，最高溫度：700℃，控制精度 ±0.5℃； 

◆蒸發電(diàn)源：採(cǎi)用恒壓、恒流真空鍍膜電(diàn)源，功率 2.4Kw；電流調節精度 0.01A，電壓調節精度 0.001V，數量：2 台 有機物蒸發電源：採用 10V30A 穩流電(diàn)源，電(diàn)流調(diào)節精度：0.01A，最小分辨率：0.1mV，0.1mA 數量：2 台 

◆樣(yàng)品台：可容納(nà)樣(yàng)品最大尺寸：6 英寸樣品托一個 , 配擋闆，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱(rè)控溫，溫度範(fàn)圍：室 溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃；( 可選帶掩膜庫系統樣品台 ) 

◆膜厚監測儀：採用 Inficon SQM-160 速率 / 膜厚監測儀，配 1 個水冷探頭。在線監測(cè)蒸發速率與達到膜厚關閉(bì)基片擋闆。 

◆控制單元：15 英寸觸摸屏 +PLC 控制

選擇配置：

◆樣品台可水冷，採(cǎi)用直接式水冷形式，水冷不控溫(wēn) 

◆可選薄膜鍍層控制儀（SQC-310） 

◆可選進口蒸發電源 

◆全量程真空計 (Inficon) 

◆樣品托 : 不鏽鋼(gāng)、鋁(lǚ)或銅，基片盤上有螺紋孔

系統要求标準配置：

◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上 

◆工作氣體 : 幹燥壓縮空氣、氮氣 

◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 32A 

◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min，壓力 <0.4MPa