應用領域 ：
适合蒸鍍(dù)對(duì)氧較敏感的金屬膜（ 如 Al、Au、Ag、Cu 等），也可蒸鍍(dù)各種氧化物材料。可實現對(duì)有機材料的蒸發鍍(dù)膜，可滿 足發光器件 如 OLED（有機發光二極管）。及有機太陽能電(diàn)池方面的研究要求 ，是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設備(bèi)。 可鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單(dān)層(céng) / 多層 / 複合膜，（ Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等）；鍍制非金屬 / 化合物等 材料薄膜（ Mo03, LiF） 等；有機材料等蒸發(fā)；太陽能電(diàn)池、LED 的研究和實驗；描電(diàn)鏡(jìng)制樣等
基本配置：
◆真空腔室 ：350×400mm 不鏽鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理；腔室底闆 ，頂(dǐng)部和側(cè)面裝有腔室内硬件接口；前 門上配直徑 80 玻璃觀察窗（含手動(dòng)防污染擋(dǎng)闆、可拆洗防污玻璃）；腔體可選擇水冷 。
◆抽氣系統 ： 採用複合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作爲真空抽氣(qì)系統； 主抽泵：分子泵抽速≥ 600L/S，氮氣壓縮比≥ 109 ； 前級泵 ：VRD-24 機械泵及電(diàn)磁閥(fá)，抽速：6L/S 主抽閥： CCQ-150 超高真空氣動插闆閥
* 真空系統可以升級(jí)爲進口分子泵和渦旋幹(gàn)泵。
◆真空測(cè)量：數顯複(fù)合真空計 ： “兩低一高”全量程數顯複合真空計；
* 真空測(cè)量可以升級爲進口全量程冷陰極(jí)真空計
◆極限真空：<5×10-5Pa ◆恢複真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) ◆熱蒸發 / 有機物蒸發源： 最多 4 組金屬蒸發(fā)源，水冷電(diàn)極和盒式防污染蒸發(fā)源；（可選配置） 最多 4 個(gè)有機束源爐，採(cǎi)用氧化鋁或石英坩埚（2CC）（可選配置）
◆蒸發電(diàn)源：採(cǎi)用恒壓、恒流真空鍍膜電(diàn)源，最大輸出功率 2.4Kw； 電流調節精度 0.01A，電壓調節精度 0.01V，數量：2 台
◆樣(yàng)品台 ：可容納(nà)樣(yàng)品最大尺寸：4 英寸樣品托一個 , 配擋闆，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱控溫， 溫度範圍 ：室溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃；
◆系統控制：10 英寸觸摸屏 +PLC 控制（可選手動按鈕）
選擇配置：
◆樣品台可水冷，採(cǎi)用直接式水冷形式，水冷不控溫(wēn)
◆速率 / 膜厚監測儀（SQM-160） 薄膜鍍層控制儀（SQC-310）
◆可選進口蒸發電源 ◆全量程真空計 (Inficon)
◆樣品托 : 不鏽鋼(gāng)、鋁(lǚ)或銅，基片盤上有螺紋孔。
系統要求标準配置：
◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上
◆工作氣體 : 幹燥壓縮空氣、氮氣
◆電 源 : 單相 220V, 50Hz,32A
◆冷 凍 水 :18-25℃ , 3L/min，壓力 <0.4MPa
