應用領域：
本裝置是磁控濺射鍍(dù)膜系統 ，該(gāi)系統兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜 ( 如：ITO) 等；廣泛應用於(yú)科研院所、實驗室制備(bèi)單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究 。 本裝置系統結構緊湊，系統採(cǎi)用模塊化設計可擴展性高，在保證系統穩定性的前提下 ，進一步優化您的實驗室利用空間；适合擺放於(yú)工作台面上。
基本配置 ：
◆真空腔室：Φ250 mm(ID) x 250 mm(H)
◆真空系統：機械泵 + 分子泵兩級真空系統 前級泵：VRD-16 機械泵，抽速：4L/S ；主抽泵：分子泵 ，抽氣(qì)速率 ：300L/S 主抽閥 ：CC-100 超高真空手動插闆閥， 可調(diào)節分子泵抽速，有利於(yú)穩定工藝氣壓。
◆極限真空：<5×10-5Pa
◆恢複真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min)
◆真空測量：“兩低一高” 數顯複合真空計
◆濺 射 源 ：最多 2×2 英寸磁控靶
◆濺射電源：直流 (500W ) 一台（标配）
◆進氣系統：一路 MFC 控制的工藝氣路（Ar）
◆樣(yàng)品台：可容納(nà)樣(yàng)品最大尺寸：3 英寸樣品托一個 , 配擋闆，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱控溫， 溫度範圍：室溫 -300℃，控溫精度 ±0.5℃；
◆系統控制：10 英寸觸摸屏 +PLC 控制
選擇配置：
◆樣品台可水冷，採(cǎi)用直接式水冷形式，水冷不控溫(wēn)
◆全量程真空計（ Inficon）
◆電容式隔膜真空計 ( 測量濺射工作壓力 )
◆射頻電源（RF）300W（可選）
系統要求标準配置：
◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上
◆工藝氣體（Ar） ◆工作氣體 : 幹燥壓縮空氣、氮氣
◆電 源 : 單相 220V , 50Hz, 16A
◆冷 凍 水 :18-25℃ , 1L/min，壓力 < 0.4MPa
