本裝置包含燒結系統、供氣系統、真空系統，供氣系統於(yú)一體，應用於(yú)真空鍍膜、納米薄膜材料制備(bèi)、納米管生長、石墨烯生長以及複合碳材料的滲透等；也可用於(yú)氣相傳輸法材料合成及制備(bèi)納米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制備(bèi)薄膜，如制備(bèi)龐磁電阻薄膜，制備(bèi)高溫超導薄膜等；固相反應法材料合成；在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。

設備規格及配置